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文献
J-GLOBAL ID：200902107422508717
整理番号：99A0609734
193nmリソグラフィー用の脂環式アクリル酸エステル重合体に基づいた化学増幅ネガティブ型レジスト
Chemically Amplified Negative Resists Based on Alicyclic Acrylate Polymers for 193-nm Lithography.
IWASA S
(NEC Corp., Kanagawa, JPN)
,
MAEDA K
(NEC Corp., Kanagawa, JPN)
,
HASEGAWA E
(NEC Corp., Kanagawa, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 12 号： 3 ページ： 487-492 発行年： 1999年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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