文献
J-GLOBAL ID:200902107500003600
整理番号:98A0667245
極清浄スパッタ法で作ったCoCuグラニュラー膜の微細構造と巨大磁気抵抗効果
Microstructure and giant magnetoresistance of Co-Cu granular films fabricated under the extremely clean sputtering process.
著者 (4件):
TSUNODA M
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
OKUYAMA K
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
OOBA M
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
TAKAHASHI M
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
83
号:
11, Pt.2
ページ:
7004-7006
発行年:
1998年06月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)