文献
J-GLOBAL ID:200902107526344759
整理番号:99A0614416
コロイド単分子層リソグラフィー フレキシブルな表面ナノ構造化法
Colloid monolayer lithography-A flexible approach for nanostructuring of surfaces.
著者 (6件):
BURMEISTER F
(Univ. Constance, Constance, DEU)
,
BADOWSKY W
(Univ. Constance, Constance, DEU)
,
BRAUN T
(Univ. Constance, Constance, DEU)
,
WIEPRICH S
(Univ. Constance, Constance, DEU)
,
BONEBERG J
(Univ. Constance, Constance, DEU)
,
LEIDERER P
(Univ. Constance, Constance, DEU)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
144/145
ページ:
461-466
発行年:
1999年04月
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)