文献
J-GLOBAL ID:200902107779413137
整理番号:94A0402667
a-Si:C:H薄膜の光酸化
Photo-oxidation of a-Si:C:H films.
著者 (3件):
IBRAHIM F
(Heriot-Watt Univ., Riccarton, GBR)
,
WILSON J I B
(Heriot-Watt Univ., Riccarton, GBR)
,
JOHN P
(Heriot-Watt Univ., Riccarton, GBR)
資料名:
Journal of Non-Crystalline Solids
(Journal of Non-Crystalline Solids)
巻:
164/166
号:
Pt 2
ページ:
1051-1054
発行年:
1993年12月
JST資料番号:
D0642A
ISSN:
0022-3093
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)