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文献
J-GLOBAL ID：200902107995667305
整理番号：93A0238899
照射高分子表面での化学蒸着法によるポリシロキサンの生成
Polysiloxane Formation at the Irradiated Polymer Surface by the Chemical Vapor Deposition Method.
SHIRAI M
(Univ. Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
,
KINOSHITA H
(Univ. Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
,
SUMINO T
(Univ. Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
,
MIWA T
(Univ. Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
,
TSUNOOKA M
(Univ. Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
資料名：
Chemistry of Materials
(Chemistry of Materials)
巻： 5 号： 1 ページ： 98-104 発行年： 1993年01月
JST資料番号： T0893A ISSN： 0897-4756 CODEN： CMATEX 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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