文献
J-GLOBAL ID:200902108091206339
整理番号:93A0937250
光学被膜材質としてのプラズマ強化化学蒸着によって生成されたアモルファスシリコンとアモルファス窒化けい素薄膜
Amorphous silicon and amorphous silicon nitride films prepared by a plasma-enhanced chemical vapor deposition process as optical coating materials.
著者 (3件):
TSAI R-Y
(Industrial Technology Research Inst., Chutung., TWN)
,
KUO L-C
(Industrial Technology Research Inst., Chutung., TWN)
,
HO F C
(Industrial Technology Research Inst., Chutung., TWN)
資料名:
Applied Optics
(Applied Optics)
巻:
32
号:
28
ページ:
5561-5566
発行年:
1993年10月01日
JST資料番号:
B0026B
ISSN:
1559-128X
CODEN:
APOPAI
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)