文献
J-GLOBAL ID:200902108337029580
整理番号:00A0388985
(Al,Ga,In)Nヘテロ構造におけるAlxGa1-xN(x≦0.17)埋込層からの共鳴Raman散乱
Resonant Raman scattering from buried AlxGa1-xN(x≦0.17) layers in (Al,Ga,In)N heterostructures.
著者 (5件):
YOSHIKAWA M
(Fraunhofer-Inst. Angewandte Festkoerperphysik, Freiburg, DEU)
,
WAGNER J
(Fraunhofer-Inst. Angewandte Festkoerperphysik, Freiburg, DEU)
,
OBLOH H
(Fraunhofer-Inst. Angewandte Festkoerperphysik, Freiburg, DEU)
,
KUNZER M
(Fraunhofer-Inst. Angewandte Festkoerperphysik, Freiburg, DEU)
,
MAIER M
(Fraunhofer-Inst. Angewandte Festkoerperphysik, Freiburg, DEU)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
87
号:
6
ページ:
2853-2856
発行年:
2000年03月15日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)