文献
J-GLOBAL ID:200902108987550764
整理番号:99A0766071
普通環境濃度および倍増強化濃度のCO2の下で栽培したヤマナラシ林分におけるCH4およびN2Oのフラックス
Fluxes of CH4 and N2O in aspen stands grown under ambient and twice-ambient CO2.
著者 (2件):
AMBUS P
(Michigan State Univ., MI, USA)
,
ROBERTSON G P
(Michigan State Univ., MI, USA)
資料名:
Plant and Soil
(Plant and Soil)
巻:
209
号:
1
ページ:
1-8
発行年:
1999年
JST資料番号:
H0060A
ISSN:
0032-079X
CODEN:
PLSOA2
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)