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文献
J-GLOBAL ID：200902109112295414
整理番号：93A0242242
微細パターン上の低圧化学蒸着の適合性に対する表面活性化反応速度論の影響
Influence of surface-activated reaction kinetics on low-pressure chemical vapor deposition conformality over micro features.
HSIEH J J
(IBM T.J. Watson Research Center, New York)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 11 号： 1 ページ： 78-86 発行年： 1993年01月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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