文献
J-GLOBAL ID:200902109152637849
整理番号:94A0163676
アバランシェ増倍率の非局所解析モデルによる最新のSi n-p-n BJTにおける衝突電離誘起スナップバックの予測
Prediction of Impact-Ionization-Induced Snap-Back in Advanced Si n-p-n BJT’s Means of a Nonlocal Analytical Model for the Avalanche Multiplication Factor.
著者 (6件):
VERZELLESI G
(Univ. Padova, Padova, ITA)
,
BACCARANI G
(Univ. Bologna, Bologna, ITA)
,
CANALI C
(Univ. Modena, Modena, ITA)
,
PAVAN P
(Univ. Padova, Padova, ITA)
,
VENDRAME L
(Univ. Padova, Padova, ITA)
,
ZANONI E
(Univ. Padova, Padova, ITA)
資料名:
IEEE Transactions on Electron Devices
(IEEE Transactions on Electron Devices)
巻:
40
号:
12
ページ:
2296-2300
発行年:
1993年12月
JST資料番号:
C0222A
ISSN:
0018-9383
CODEN:
IETDAI
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)