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文献
J-GLOBAL ID：200902109214715981
整理番号：99A0208058
マイクロマシン用ランプ加熱型減圧CVDの試作と特性研究 ポリシリコンの成膜特性
Production of Prototype of New LPCVD Using Lamp Heating and Its Study of Characteristics. Properties of Polysilicon Film Deposited.
植田哲生
(セントラルエンジニアリング)
,
栗林勝利
(山口大 工)
,
清水聖治
(山口大 工)
,
長谷川暁
(山口大 工)
資料名：
精密工学会誌
(Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
巻： 65 号： 2 ページ： 214-218 発行年： 1999年02月
JST資料番号： F0268A ISSN： 0912-0289 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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