文献
J-GLOBAL ID:200902109569775268
整理番号:00A1058893
高アスペクトコンタクトホールのエッチングにおけるマイクロローディングの低減に対する低分子量ラジカルの効果
Effects of low-molecular-weight radicals for reduction of microloading in high-aspect contact-hole etching.
著者 (2件):
SAMUKAWA S
(NEC Corp., Ibaraki, JPN)
,
MUKAI T
(NEC Corp., Ibaraki, JPN)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
374
号:
2
ページ:
235-242
発行年:
2000年10月17日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)