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文献
J-GLOBAL ID：200902109718874703
整理番号：98A0695986
Pb(Zr,Ti)O3膜の核形成と成長に対するPt/Ti/SiO2/Si基板の作製条件と熱処理条件の影響
The Effects of the Preparation Conditions and Heat-Treatment Conditions of Pt/Ti/SiO2/Si Substrates on the Nucleation and Growth of Pb(Zr,Ti)O3 Films.
NAM H-J
(Korea Advanced Inst. Technol., Taejon, KOR)
,
KIM H-H
(Korea Advanced Inst. Technol., Taejon, KOR)
,
LEE W-J
(Korea Advanced Inst. Technol., Taejon, KOR)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 37 号： 6A ページ： 3462-3470 発行年： 1998年06月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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