前のページに戻るこの文献は全文を取り寄せることができます

JDreamⅢ複写サービスから文献全文の複写（冊子体のコピー）をお申込みできます。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。

既に、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDをお持ちの方

JDreamⅢ複写サービス
文献複写のお申込み

JDreamⅢ複写サービスのご利用が初めての方

学術文献の全文複写をお取寄せ
JDreamⅢ複写サービスのご案内

取り寄せる文献のタイトルと詳細

文献

J-GLOBAL ID：200902109908586747 整理番号：99A0609755

0.15μmのKrFリソグラフィーにおけるレジストパターンの粗度に関する研究

Study of Resist Pattern Roughness on 0.15 μm KrF Lithography.

著者 (4件)：

WATANABE M

(Oki Electric Ind. Co., Ltd., Tokyo, JPN)

YABE S

(Oki Electric Ind. Co., Ltd., Tokyo, JPN)

MACHIDA S

(Oki Electric Ind. Co., Ltd., Tokyo, JPN)

TAGUCHI T

(Oki Electric Ind. Co., Ltd., Tokyo, JPN)

資料名：

Journal of Photopolymer Science and Technology (Journal of Photopolymer Science and Technology)

巻： 12 号： 4 ページ： 643-648 発行年： 1999年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

JDreamⅢ複写サービスとは

JDreamⅢ複写サービスは、学術文献の全文を複写（コピー）して取り寄せできる有料サービスです。インターネットに公開されていない文献や、図書館に収録されていない文献の全文を、オンラインで取り寄せることができます。J-GLOBALの整理番号にも対応しているので、申し込みも簡単にできます。全文の複写（コピー）は郵送またはFAXでお送りします

※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。

TOP

BOTTOM