文献
J-GLOBAL ID:200902110223509373
整理番号:93A0760933
Al(111)上の(√<span style=text-decoration:overline>3</span>×√<span style=text-decoration:overline>3</span>)R30°-Naおよび-Kの電子構造 「正常」および置換型吸着サイトの比較
Electronic structure of (√<span style=text-decoration:overline>3</span>×√<span style=text-decoration:overline>3</span>)R30°-Na and -K on Al(111): comparison of “normal” and substitutional adsorption sites.
著者 (4件):
WENZIEN B
(Fritz-Haber-Inst. Max-Planck-Gesellschaft, Berlin, DEU)
,
BORMET J
(Fritz-Haber-Inst. Max-Planck-Gesellschaft, Berlin, DEU)
,
NEUGEBAUER J
(Fritz-Haber-Inst. Max-Planck-Gesellschaft, Berlin, DEU)
,
SCHEFFLER M
(Fritz-Haber-Inst. Max-Planck-Gesellschaft, Berlin, DEU)
資料名:
Surface Science
(Surface Science)
巻:
287/288
号:
Pt B
ページ:
559-563
発行年:
1993年05月10日
JST資料番号:
C0129B
ISSN:
0039-6028
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)