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文献
J-GLOBAL ID：200902110382142472
整理番号：00A0502884
反応性スパッタしたTi1-xAlxN薄膜の酸化の狭共鳴プロファイリング研究
Narrow resonance profiling study of the oxidation of reactively sputtered Ti1-xAlxN thin films.
HUGON M C
(Univ. Paris Sud, Orsay, FRA)
,
DESVIGNES J M
(Univ. Paris Sud, Orsay, FRA)
,
AGIUS B
(Univ. Paris Sud, Orsay, FRA)
,
VICKRIDGE I C
(GPS, Univ. Paris 7 et 6, Paris, FRA)
,
KIM D J
(North Carolina State Univ., NC, USA)
,
KINGON A I
(North Carolina State Univ., NC, USA)
資料名：
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms
(Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻： 161/163 ページ： 578-583 発行年： 2000年03月
JST資料番号： H0899A ISSN： 0168-583X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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