文献
J-GLOBAL ID:200902110637589450
整理番号:99A0375226
強磁性/酸化物/強磁性構造薄膜の磁気抵抗のキャラクタリゼーション
Characterization of mangetoresistance in ferromagnetic/oxide/ferromagnetic structured thin films.
著者 (5件):
CHO Y-J
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
KIM H-J
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
JUNG W-C
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
LEE B-I
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
JOO S-K
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
98
号:
621(MR98 78-97)
ページ:
85-89
発行年:
1999年02月26日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)