文献
J-GLOBAL ID:200902110678657001
整理番号:00A0275570
非常に高いターゲットの電力密度を用いた新しいパルスマグネトロンスパッタ法
A novel pulsed magnetron sputter technique utilizing very high target power densities.
著者 (5件):
KOUZNETSOV V
(Linkoeping Univ., Linkoeping, SWE)
,
MACAK K
(Linkoeping Univ., Linkoeping, SWE)
,
SCHNEIDER J M
(Linkoeping Univ., Linkoeping, SWE)
,
HELMERSSON U
(Linkoeping Univ., Linkoeping, SWE)
,
PETROV I
(Univ. Illinois, IL, USA)
資料名:
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻:
122
号:
2/3
ページ:
290-293
発行年:
1999年12月15日
JST資料番号:
D0205C
ISSN:
0257-8972
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)