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文献
J-GLOBAL ID：200902110775721075
整理番号：00A0710533
低圧化学蒸着によるナノメータスケールのシリコンドットの自己集合形成の制御
Control of self-assembling formation of nanometer silicon dots by low pressure chemical vapor deposition.
MIYAZAKI S
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
,
HAMAMOTO Y
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
,
YOSHIDA E
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
,
IKEDA M
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
,
HIROSE M
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 369 号： 1/2 ページ： 55-59 発行年： 2000年07月03日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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