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文献
J-GLOBAL ID：200902110898240187
整理番号：99A0237769
極端紫外リソグラフィックレチクルの熱機械特性
Thermal-mechanical performance of extreme ultraviolet lithographic reticles.
GIANOULAKIS S E
(Sandia National Lab., New Mexico)
,
RAY-CHAUDHURI A K
(Sandia National Lab., California)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 16 号： 6 ページ： 3440-3443 発行年： 1998年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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