文献
J-GLOBAL ID:200902111244536091
整理番号:97A0086739
窒素を注入したTiO2膜における微小硬さと歪の深さ方向分布
Microhardness and Strain Depth Profiles in Nitrogen-Implanted TiO2 Films.
著者 (2件):
FUKUSHIMA K
(Setsunan Univ., Osaka, JPN)
,
YAMADA I
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
35
号:
11
ページ:
5790-5795
発行年:
1996年11月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)