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文献
J-GLOBAL ID：200902111405848714
整理番号：95A0762100
先進のメタライゼーション用のt-ブチルイミドトリス(ジメチルアミド)タンタルによる窒化タンタルの有機金属化学蒸着
Metalorganic chemical vapor deposition of tantalum nitride by tertbutylimidotris(diethylamido)tantalum for advanced metallization.
TSAI M H
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
SUN S C
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
CHIU H T
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
TSAI C E
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
CHUANG S H
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 67 号： 8 ページ： 1128-1130 発行年： 1995年08月21日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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