文献
J-GLOBAL ID:200902111414465631
整理番号:98A0409273
再成長させたn+GaN Ohm接触を有するAlN/GaN絶縁ゲート型ヘテロ構造FET
AlN/GaN insulated gate heterostructure FET with regrown n+GaN ohmic contact.
著者 (4件):
KAWAI H
(Sony Corp., Yokohama, JPN)
,
HARA M
(Sony Corp., Yokohama, JPN)
,
NAKAMURA F
(Sony Corp., Yokohama, JPN)
,
IMANAGA S
(Sony Corp., Yokohama, JPN)
資料名:
Electronics Letters
(Electronics Letters)
巻:
34
号:
6
ページ:
592-593
発行年:
1998年03月19日
JST資料番号:
A0887A
ISSN:
0013-5194
CODEN:
ELLEAK
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)