文献
J-GLOBAL ID:200902111430679960
整理番号:94A0075236
パルス化プラズマ放電によるYBaCuO薄膜堆積
YBaCuO Thin Film Deposition by Pulsed Plasma Discharges.
著者 (3件):
SUDA Y
(Sasebo Coll. Technology, Nagasaki, JPN)
,
NAKAZONO T
(Sasebo Coll. Technology, Nagasaki, JPN)
,
EBIHARA K
(Kumamoto Univ., Kumamoto, JPN)
資料名:
Conference Record of the IEEE Industry Applications Conference
(Conference Record of the IEEE Industry Applications Conference)
巻:
1993
号:
Vol 3
ページ:
1792-1795
発行年:
1993年
JST資料番号:
A0713B
ISSN:
0197-2618
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)