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文献
J-GLOBAL ID：200902111478731874
整理番号：99A0943038
新しいタイプの光塩基発生剤,ジベンゾフェノンオキシムヘキサメチレンジウレタンの光分解反応機構
Photolysis reaction mechanism of dibenzophenoneoxime hexamethylenediurethane, a new type of photobase generator.
HWANG H
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
JANG D-J
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
CHAE K H
(Chonnam National Univ., Chonnam, KOR)
資料名：
Journal of Photochemistry and Photobiology. A. Chemistry
(Journal of Photochemistry and Photobiology. A. Chemistry)
巻： 126 号： 1/3 ページ： 37-42 発行年： 1999年09月
JST資料番号： D0721B ISSN： 1010-6030 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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