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文献
J-GLOBAL ID：200902111481326212
整理番号：00A0908575
New Materials for 157nm Photoresists: Characterization and Properties.
CRAWFORD M K
(DuPont Central Res. & Dev., DE)
,
FEIRING A E
(DuPont Central Res. & Dev., DE)
,
FELDMAN J
(DuPont Central Res. & Dev., DE)
,
PERIYASAMY M
(DuPont iTechnol., DE)
,
SCHADT F L III
(DuPont iTechnol., DE)
,
KUNZ R R
(MIT Lincoln Lab., MA)
,
RAO V
(Intel Corp., CA)
,
LIAO L
(Intel Corp., CA)
,
HOLL S M
(Intel Corp., CA)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 3999 号： Pt.1 ページ： 357-364 発行年： 2000年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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