文献
J-GLOBAL ID:200902111577648482
整理番号:93A0238086
Surface-sensitive multiple internal reflection spectroscopy as a tool to study surface mechanisms in CVD: the example of UV photodeposition of silicon dioxide and silicon nitride.
著者 (2件):
LICOPPE C
(Centre National d’Etude des Telecommunications, Bagneux, FRA)
,
DEBAUCHE C
(Centre National d’Etude des Telecommunications, Bagneux, FRA)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
63
号:
1/4
ページ:
115-118
発行年:
1993年01月
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)