文献
J-GLOBAL ID:200902111594999256
整理番号:00A0040783
ゲート酸化膜絶縁破壊に関するパーコレーションモデル
Percolation models for gate oxide breakdown.
著者 (1件):
STATHIS J H
(IBM Res. Div., New York)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
86
号:
10
ページ:
5757-5766
発行年:
1999年11月15日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)