文献
J-GLOBAL ID:200902111883918426
整理番号:98A0854016
高性能,低コストICに用いるCu/低誘電率二重層ダマシン相互接続構造
A Cu/Low-κ Dual Damascene Interconnect for High Performance and Low Cost Integrated Circuits.
著者 (9件):
ZHAO B
(Applied Materials, CA, USA)
,
FEILER D
(Applied Materials, CA, USA)
,
RAMANATHAN V
(Applied Materials, CA, USA)
,
LIU Q Z
(Applied Materials, CA, USA)
,
BRONGO M
(Applied Materials, CA, USA)
,
WU J
(Applied Materials, CA, USA)
,
DING P
,
JOHNSON M
(Semitool, MT, USA)
,
COOK L
(Rodel, DE, USA)
資料名:
Digest of Technical Papers. Symposium on VLSI Technology
(Digest of Technical Papers. Symposium on VLSI Technology)
巻:
1998
ページ:
28-29
発行年:
1998年
JST資料番号:
A0035B
ISSN:
0743-1562
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)