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文献
J-GLOBAL ID：200902112002240917
整理番号：99A0372768
プラズマエッチングマスクとして粗い金属膜を用いた円錐状および柱状シリコンの作製
Fabrication of silicon cones and pillars using rough metal films as plasma etching masks.
SEEGER K
(Univ. Birmingham, Birmingham, GBR)
,
PALMER R E
(Univ. Birmingham, Birmingham, GBR)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 74 号： 11 ページ： 1627-1629 発行年： 1999年03月15日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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