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J-GLOBAL ID：200902112076575449 整理番号：96A0973521

固体原料MOCVD法によるニオブ酸リチウム薄膜のエピタキシャル成長

Epitaxial growth of lithium niobate thin films by the solid source MOCVD method.

著者 (1件)：

FEIGELSON R S

(Stanford Univ., California, USA)

資料名：

Journal of Crystal Growth (Journal of Crystal Growth)

巻： 166 号： 1/4 ページ： 1-16 発行年： 1996年09月
JST資料番号： B0942A ISSN： 0022-0248 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：文献レビュー発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

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