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文献
J-GLOBAL ID：200902112744812768
整理番号：97A0667558
イオン照射を受けたフォトレジストからの電界放出
Field Emission from an Ion Irradiated Photoresist.
ASANO T
(Kyushu Inst. Technol., Fukuoka, JPN)
,
SHIBATA E
(Kyushu Inst. Technol., Fukuoka, JPN)
,
SASAGURI D
(Kyushu Inst. Technol., Fukuoka, JPN)
,
MAKIHIRA K
(Kyushu Inst. Technol., Fukuoka, JPN)
,
HIGA K
(Kyushu Inst. Technol., Fukuoka, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 36 号： 6B ページ： L818-L820 発行年： 1997年06月15日
JST資料番号： F0599B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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