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文献
J-GLOBAL ID:200902113144031912   整理番号:98A0422022

光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法 (第7報) ウルトラクリーンルームでのSiウェーハ面の測定と微粒子測定表面評価

Particle size measuring method of nanometer order using the light-scattering method. (Report No. 7). Measurement of Si wafer surface in a ultra clean room and evaluation of surface for micro-particle measurement.
著者 (9件):
安弘
(大阪電通大 工)
佐々木都至
(大阪電通大 工)
谷口浩之
(大阪電通大 工)
森勇蔵
(大阪大 大学院)
片岡俊彦
(大阪大 大学院)
遠藤勝義
(大阪大 大学院)
山内和人
(大阪大 大学院)
井上晴行
(大阪大 大学院)
井山章吾
(大阪大 大学院)

資料名:
精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)

巻: 1998  号: 春季  ページ: 674  発行年: 1998年03月 
JST資料番号: Y0914A  資料種別: 会議録 (C)
発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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