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文献
J-GLOBAL ID：200902113363058494
整理番号：98A0671957
化学増幅レジストにおける光酸発生体の構造効果
Structural Effect of Photoacid Generators on Chemically Amplified Resist.
AOAI T
(Fuji Photo Film Co., Ltd., Shizuoka, JPN)
,
KODAMA K
(Fuji Photo Film Co., Ltd., Shizuoka, JPN)
,
YAMANAKA T
(Fuji Photo Film Co., Ltd., Shizuoka, JPN)
,
YAGIHARA M
(Fuji Photo Film Co., Ltd., Shizuoka, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 11 号： 3 ページ： 409-418 発行年： 1998年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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