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文献
J-GLOBAL ID：200902113679694848
整理番号：00A0437163
分子線エピタキシーにより成長させた巨大磁気抵抗磁気トンネル接合
Colossal magnetoresistance magnetic tunnel junctions grown by molecular-beam epitaxy.
O’DONNELL J
(Univ. Illinois, Illinois)
,
ANDRUS A E
(Univ. Illinois, Illinois)
,
OH S
(Univ. Illinois, Illinois)
,
COLLA E V
(Univ. Illinois, Illinois)
,
ECKSTEIN J N
(Univ. Illinois, Illinois)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 76 号： 14 ページ： 1914-1916 発行年： 2000年04月03日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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