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文献
J-GLOBAL ID：200902113756492030
整理番号：02A0687199
ZnO:AlターゲットとCo,Mn及びCrで汚染されたZnターゲットの同時スパッタリングにより堆積したZnO:Al膜の膜特性
Film properties of ZnO:Al films deposited by co-sputtering of ZnO:Al and contaminated Zn targets with Co, Mn and Cr.
TOMINAGA K
(Univ. Tokushima, Tokushima, JPN)
,
TAKAO T
(Univ. Tokushima, Tokushima, JPN)
,
FUKUSHIMA A
(Univ. Tokushima, Tokushima, JPN)
,
MORIGA T
(Univ. Tokushima, Tokushima, JPN)
,
NAKABAYASHI I
(Univ. Tokushima, Tokushima, JPN)
資料名：
Vacuum
(Vacuum)
巻： 66 号： 3/4 ページ： 511-515 発行年： 2002年08月19日
JST資料番号： E0347A ISSN： 0042-207X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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