文献
J-GLOBAL ID:200902114292936912
整理番号:99A0864005
Al相互接続配線中に走査レーザ焼鈍によって誘起される微小構造の発展
Microstructural evolution induced by scanned laser annealing in Al interconnects.
著者 (2件):
HAU-RIEGE C S
(Massachusetts Inst. Technol., Massachusetts)
,
THOMPSON C V
(Massachusetts Inst. Technol., Massachusetts)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
75
号:
10
ページ:
1464-1466
発行年:
1999年09月06日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)