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文献
J-GLOBAL ID：200902114452463153
整理番号：94A0651380
マイクロ波検出フォトコンダクタンス減衰によるけい素-二酸化けい素界面の表面再結合速度の測定
Surface recombination velocity measurements at the silicon-silicon dioxide interface by microwave-detected photoconductance decay.
STEPHENS A W
(Univ. New South Wales, NSW, AUS)
,
ABERLE A G
(Univ. New South Wales, NSW, AUS)
,
GREEN M A
(Univ. New South Wales, NSW, AUS)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 76 号： 1 ページ： 363-370 発行年： 1994年07月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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