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文献
J-GLOBAL ID：200902114577429887
整理番号：96A0613997
ArF液相シリル化法での拡散速度の制御
Control of Diffusion Kinetics in ArF Liquid-Phase Silylation Process.
MATSUO T
(Matsushita Electic Ind., Co., Ltd., Osaka, JPN)
,
ENDO M
(Matsushita Electic Ind., Co., Ltd., Osaka, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 9 号： 3 ページ： 523-531 発行年： 1996年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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