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文献
J-GLOBAL ID：200902114702671903
整理番号：93A0813465
窒化チタン膜中のアルミニウムの拡散 TiN障壁層の効率
Aluminium Diffusion in Titanium Nitride Films. Efficiency of TiN Barrier Layers.
GRIGOROV G I
(Inst. Electronics, Bulgarian Academy of Sciences, Sofia, BGR)
,
GRIGOROV K G
(Inst. Electronics, Bulgarian Academy of Sciences, Sofia, BGR)
,
STOYANOVA M
(Inst. Electronics, Bulgarian Academy of Sciences, Sofia, BGR)
,
VIGNES J L
(CECM, CNRS, Vitry/Seine, FRA)
,
LANGERON J P
(CECM, CNRS, Vitry/Seine, FRA)
,
DENJEAN P
(CECM, CNRS, Vitry/Seine, FRA)
資料名：
Applied Physics. A. Materials Science & Processing
(Applied Physics. A. Materials Science & Processing)
巻： 57 号： 2 ページ： 195-197 発行年： 1993年08月
JST資料番号： D0256C ISSN： 0947-8396 CODEN： APHYCC 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： ドイツ (DEU) 言語： 英語 (EN)
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