文献
J-GLOBAL ID:200902115416678328
整理番号:97A0560271
ヘキサメチルジシラザンを用いてRPECVDにより作製した窒化けい素膜の性質の研究
The investigation of properties of silicon nitride films obtained by RPECVD from hexamethyldisilazane.
著者 (6件):
FAINER N I
(Inst. Inorganic Chemistry, SB RAS, Novosibirsk, RUS)
,
RUMYANTSEV YU M
(Inst. Inorganic Chemistry, SB RAS, Novosibirsk, RUS)
,
KOSINOVA M L
(Inst. Inorganic Chemistry, SB RAS, Novosibirsk, RUS)
,
YURJEV G S
(Inst. Inorganic Chemistry, SB RAS, Novosibirsk, RUS)
,
MAXIMOVSKII E A
(Inst. Inorganic Chemistry, SB RAS, Novosibirsk, RUS)
,
KUZNETSOV F A
(Inst. Inorganic Chemistry, SB RAS, Novosibirsk, RUS)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
113/114
ページ:
614-617
発行年:
1997年04月
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)