文献
J-GLOBAL ID:200902115441310599
整理番号:94A0002243
VHFプラズマ中における高速a-Si:H蒸着の解析
Analysis of high-rate a-Si:H deposition in a VHF plasma.
著者 (3件):
HEINTZE M
(Univ. Stuttgart, Stuttgart, DEU)
,
ZEDLITZ R
(Univ. Stuttgart, Stuttgart, DEU)
,
BAUER G H
(Univ. Stuttgart, Stuttgart, DEU)
資料名:
Journal of Physics. D. Applied Physics
(Journal of Physics. D. Applied Physics)
巻:
26
号:
10
ページ:
1781-1786
発行年:
1993年10月14日
JST資料番号:
B0092B
ISSN:
0022-3727
CODEN:
JPAPBE
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)