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文献
J-GLOBAL ID：200902115446761017
整理番号：02A0306893
SiおよびSiO2と接触する高誘電率金属酸化物ZrO2とHfO2の熱力学的安定性
Thermodynamic stability of high-K dielectric metal oxides ZrO2 and HfO2 in contact with Si and SiO2.
GUTOWSKI M
(Pacific Northwest National Lab., Washington)
,
JAFFE J E
(Pacific Northwest National Lab., Washington)
,
LIU C-L
(Motorola, Arizona)
,
STOKER M
(Motorola, Arizona)
,
HEGDE R I
(Motorola, Texas)
,
RAI R S
(Motorola, Texas)
,
TOBIN P J
(Motorola, Texas)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 80 号： 11 ページ： 1897-1899 発行年： 2002年03月18日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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