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文献
J-GLOBAL ID：200902115698660078
整理番号：00A0692961
ディンプル鋳型を用いた微小パターン刻印リソグラフィー
Fine pattern imprint lithography using dimpled mold.
HIRAI Y
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
KANEMAKI Y
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
FUJIWARA M
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
YOTSUYA T
(Osaka Sci. and Technol. Center, Osaka, JPN)
,
TANAKA Y
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 13 号： 3 ページ： 435-439 発行年： 2000年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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