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J-GLOBAL ID：200902115776988492 整理番号：01A1073518

ノルボルナジエン基を保有する高分子膜の大きな光誘起屈折率変化及びサブミクロンスケール屈折率パターニングへのその応用

Large Photoinduced Refractive Index Change of Polymer Films Containing and Bearing Norbornadiene Groups and Its Application to Submicron-Scale Refractive-Index Patterning.

著者 (5件)：

KATO Y

(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)

MUTA H

(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)

TAKAHASHI S

(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)

HORIE K

(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)

NAGAI T

(Daikin Ind., Ltd., Ibaraki, JPN)

資料名：

Polymer Journal (Polymer Journal)

巻： 33 号： 11 ページ： 868-873 発行年： 2001年11月15日
JST資料番号： F0612A ISSN： 0032-3896 CODEN： POLJB8 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

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