文献
J-GLOBAL ID:200902116172287050
整理番号:93A0910063
反応性ガスフロースパッタリングによるアルミナ膜の高速蒸着
High rate deposition of alumina films by reactive gas flow sputtering.
著者 (2件):
JUNG T
(Fraunhofer Inst. Schicht- und Oberflaechentechnik, Hamburg, DEU)
,
WESTPHAL A
(Fraunhofer Inst. Schicht- und Oberflaechentechnik, Hamburg, DEU)
資料名:
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻:
59
号:
1/3
ページ:
171-176
発行年:
1993年10月01日
JST資料番号:
D0205C
ISSN:
0257-8972
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)