文献
J-GLOBAL ID:200902116207304786
整理番号:02A0223968
スパッタリングターゲット材料の窒化アルミニウム薄膜の結晶性及び配向性への影響
Influence of Sputtering Target Material on Crystallinity and Orientation of AlN Thin Films.
著者 (4件):
AKIYAMA M
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Saga, JPN)
,
XU C-N
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Saga, JPN)
,
HAGIO T
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Saga, JPN)
,
NONAKA K
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Saga, JPN)
資料名:
日本セラミックス協会学術論文誌
(Journal of the Ceramic Society of Japan)
巻:
110
号:
1278
ページ:
115-117
発行年:
2002年02月01日
JST資料番号:
F0382A
ISSN:
0914-5400
CODEN:
JCSJEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)