文献
J-GLOBAL ID:200902116531484800
整理番号:93A0285214
Photochemical Generation of Polysiloxane Surfaces on Polymers, and Subsequent Oxygen Plasma Resistance.
著者 (4件):
SHIRAI M
(Univ. Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
,
MIWA T
(Univ. Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
,
SUMINO T
(Univ. Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
,
TSUNOOKA M
(Univ. Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
資料名:
Journal of Materials Chemistry
(Journal of Materials Chemistry)
巻:
3
号:
2
ページ:
133-137
発行年:
1993年02月
JST資料番号:
W0204A
ISSN:
0959-9428
CODEN:
JMACEP
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)