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文献
J-GLOBAL ID：200902116581413564
整理番号：02A0194490
PrOxゲート絶縁膜のPLD法による作製
Preparation of PrOx gate insulators using Pulsed Laser Deposition.
北井聡
(大阪大 大学院基礎工学研究科)
,
寒川雅之
(大阪大 大学院基礎工学研究科)
,
神田浩文
(大阪大 大学院基礎工学研究科)
,
金島岳
(大阪大 大学院基礎工学研究科)
,
奥山雅則
(大阪大 大学院基礎工学研究科)
資料名：
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 101 号： 515(SDM2001 183-204) ページ： 11-16 発行年： 2001年12月20日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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