文献
J-GLOBAL ID:200902116662210226
整理番号:93A0950252
極端に薄い結像層と選択的なエレクトロレスメタライゼーションをもつ投影型X線リソグラフィー
Projection x-ray lithography with ultrathin imaging layers and selective electroless metallization.
著者 (11件):
CALVERT J M
(Naval Research Lab., Washington, D.C.)
,
KOLOSKI T S
(Naval Research Lab., Washington, D.C.)
,
DRESSICK W J
(Naval Research Lab., Washington, D.C.)
,
DULCEY C S
(Naval Research Lab., Washington, D.C.)
,
PECKERAR M C
(Naval Research Lab., Washington, D.C.)
,
CERRINA F
(Univ. Wisconsin, Wisconsin)
,
TAYLOR J W
(Univ. Wisconsin, Wisconsin)
,
SUH D
(Univ. Wisconsin, Wisconsin)
,
WOOD O R II
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
MACDOWELL A A
(AT&T Bell Lab., New York)
,
D’SOUZA R
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
資料名:
Optical Engineering
(Optical Engineering)
巻:
32
号:
10
ページ:
2437-2445
発行年:
1993年10月
JST資料番号:
B0577B
ISSN:
0091-3286
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)